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產(chǎn)品型號：ETA-TCM
更新時間：2024-08-13簡要描述：日本advanced 厚度/膜厚/光學常數(shù)測量裝置 ETA-TCM這是一種測量納米級薄膜厚度的裝置。其特點是快速、非接觸、能夠高精度地進行大面積測量。
| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 進口 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 綜合 |
日本advanced 厚度/膜厚/光學常數(shù)測量裝置 ETA-TCM
這是一種測量納米級薄膜厚度的裝置。其特點是快速、非接觸、能夠高精度地進行大面積測量。
特長：
反射/透射光譜測量
測量基材上單層薄膜的 n/k（光學常數(shù)）
基材上堆疊的每層薄膜的膜厚（最多3層）
各膜層光學模型及參數(shù)可調
受光部波長帶（320nm～1700nm）
配備自動校準功能
支持高速測量、卷對卷、在線測量
應用：
1.電子產(chǎn)品
顯示/照明/半導體/OLED等
實例：AR/防指紋膜/防污膜/阻隔膜/硬涂層/絕緣/TFT等。
2.汽車
醫(yī)療器械/藥品/細胞/小瓶等
實例：AR/防指紋膜/防污膜/阻隔膜/硬涂層/隔膜等。
3.生物醫(yī)學
顯示/照明/半導體/OLED等
實例：SiO2涂層/醫(yī)用薄膜等。
4.其他的
太陽能電池/鋰電池/鏡頭/飲料容器/光盤等
實例：阻隔膜/硬涂層/SiO2涂層/聚碳酸酯/隔膜等。
日本advanced 厚度/膜厚/光學常數(shù)測量裝置 ETA-TCM
這是一種測量納米級薄膜厚度的裝置。其特點是快速、非接觸、能夠高精度地進行大面積測量。
特長：
反射/透射光譜測量
測量基材上單層薄膜的 n/k（光學常數(shù)）
基材上堆疊的每層薄膜的膜厚（最多3層）
各膜層光學模型及參數(shù)可調
受光部波長帶（320nm～1700nm）
配備自動校準功能
支持高速測量、卷對卷、在線測量
應用：
1.電子產(chǎn)品
顯示/照明/半導體/OLED等
實例：AR/防指紋膜/防污膜/阻隔膜/硬涂層/絕緣/TFT等。
2.汽車
醫(yī)療器械/藥品/細胞/小瓶等
實例：AR/防指紋膜/防污膜/阻隔膜/硬涂層/隔膜等。
3.生物醫(yī)學
顯示/照明/半導體/OLED等
實例：SiO2涂層/醫(yī)用薄膜等。
4.其他的
太陽能電池/鋰電池/鏡頭/飲料容器/光盤等
實例：阻隔膜/硬涂層/SiO2涂層/聚碳酸酯/隔膜等。
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